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가열시험

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적외선 램프를 이용한 고속 가열 · 고속 냉각 열처리를 할 수 있습니다.
시료를 직접 가열하는 온도의 상승이 빠르고 처리 수를 비약적으로 늘릴 수 있습니다.

6인치 사이즈까지 어닐링 처리

최대 6 인치 웨이퍼를 대상으로 한 가열 장치입니다.
Si 반도체와 화합물 반도체, 유리 기판 등의 프로세스에서 고속 가열 / 냉각을 분위기 가변 하에서 가능합니다.

열처리 측정 온도 범위 측정 분위기 시료 형상, 치수
실온 ~ 1100 ℃ 대기 중
불활성 가스중(진공)		 최대 6 인치 웨이퍼

해당제품소개

적외선램프가열장치 RTP-6

각종 분위기에서 가열시험

각종 재료의 어닐링, 가스퀜칭 등 급속 / 저속 가열 처리를 분위기 가변 하에서 가능합니다.

분위기 가변
열처리		 측정 온도 범위 측정 분위기 시료 형상, 치수
실온 ~ 1000 ℃ 대기 중
불활성 가스(진공)		 길이 50㎜ × 100㎜ × 두께 1 ~ 10㎜
※ 상담 요

해당제품소개

적외선램프가열장치 QHC-P610CP

작은 시험편의 가열시험

비교적 작은 시료의 급속 가열 / 냉각이 자유로운 분위기에서 클린하게 할 수 있습니다.

열처리 측정 온도 범위 측정 분위기 시료 형상, 치수
실온 ~ 1200 ℃ 대기 중
불활성 가스(진공)		 최대 사각 20㎜ × 두께 2㎜

해당제품소개

탁상형 램프가열장치 MILA-5000

작은 시험편의 고온가열시험

작은 시료의 1800℃까지 초고온 가열이 가능합니다.

열처리 측정 온도 범위 측정 분위기 시료 형상, 치수
실온 ~ 1800 ℃ 대기 중
불활성 가스(진공)		 최대 φ6㎜ × 6㎜

해당제품소개

적외선램프가열장치 MR-39H / D