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탁상형램프가열장치 MILA-5000시리즈

작은 샘플의 연구개발에 최적입니다.
고속 가열 · 고속 냉각, 클린 가열이 가능합니다. 50 ℃/s의 고속가열
진공, 가스, 가스 flow, 대기 및 임의 분위기 선택 가능하며 온도 컨트롤러와 분위기 가변 챔버가 일체화된 소형 적외선 램프가열장치입니다.
가열 조작을 USB 연결을 통해 PC에서 간편하게 데이터 관리할 수 있습니다.

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■ Mini Lamp Annealer MILA-5000 series

작은 샘플의 연구개발에 최적입니다.
고속 가열 · 고속 냉각, 클린 가열이 가능합니다.
다양한 분위기에서 가열 가능하며 온도 컨트롤러와 분위기 가변 챔버가 일체화된 소형 적외선 램프가열장치입니다.

가열 조작을 USB 연결을 통해 PC에서 간편하게 데이터 관리할 수 있습니다.

Perfect for research and development on small samples.

Capable of high-speed heating, high-speed cooling, and clean heating.

This small, low-cost Infrared Lamp Heating System combines a temperature controller

and a variable atmosphere chamber, capable of heating in an adjustable atmosphere.

Heating operations can be performed on a PC via a USB connection and data can be easily managed.

■ 용도

강유전체 박막의 결정성 어닐링
이온 주입 후의 확산 어닐링, 산화막 생성 어닐링
Si 화합물 웨이퍼의 신터링, 얼로이처리
유리 기판의 작열 어닐링
열 사이클, 열 충격, 열 피로 시험
승온이탈 시험, 촉매 효과 시험
Crystal annealing of ferroelectric thin films
Diffusion annealing after ion implantation and oxide film generation annealing
Sintering and alloying treatments of Si and compound wafers
Burn annealing of glass substrates
Thermal cycle, thermal shock, thermal fatigue tests
Temperature-programmed desorption tests, catalytic effect tests

■ 특징

50 ℃/s의 고속가열
진공, 가스, 가스 flow, 대기 및 임의 분위기 선택
정밀한 온도 컨트롤
탁상형으로 컴팩트한 디자인
50 °C/s high-speed heating
Selectable atmosphere: vacuum, gas, gas flow, air
Precise temperature control
Compact, table-top design

■ 사양

모델	MILA-5000-P-N (근적외선형)	MILA-5000P-F (원적외선형)
온도 범위	실온 ~ 1200 ℃	실온 ~ 800 ℃
램프	근적외선 램프	원적외선 램프
시료 크기	사각 20mm × 두께 2mm
측정 분위기	대기, 진공, 가스 Flow 중
어플리케이션	진공배기장치 (로터리 펌프 세트) 냉각수 순환 장치

■ 옵션예

시료관찰용 CCD 카메라 유닛

가열중의 시료관찰

시료 관찰용 CCD 카메라 유닛을 장착하면 가열시 시료의 변화를 컴퓨터에 입력할 수 있습니다.

전기저항측정 유닛

열처리를 하면서 전기 저항률 측정

전기 저항 측정 유닛으로 교체하고, 가지고 계신 디지털 멀티미터에 연결하기만 하면 가열하면서 전기 저항률을 측정할 수 있습니다.

액체 질소 미스트 급속 냉각 유닛

액체 질소 미스트 분사에 의한 급속 냉각

400℃부터 0℃까지, 단 2초 만에 급냉이 가능합니다.

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